Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м
  • Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м
  • Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м
  • Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м
  • Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м

Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м

6 803 руб.

Описание

Чистота: В: 99.995%

Молекулярный вес: 114,82

Плотность: 7,31 г/см3

Температура плавления: 156,61 °C

Температура кипения: 2080 ℃

Сопротивление: 8,37 м Ω см

Внешний вид: серебристо-белый, с металлическим блеском, мягкое качество. Яркая поверхность, без окисления, без загрязнения.

Размер: 4,0 мм Φ * 1 м

Применение: в основном используется для вакуумного покрытия, мобильного телефона оболочки линии, дорожная доска и другие непроводящие материалы электронной промышленности, высокотехнологичные уплотнительные материалы, индиевый сплав, полупроводниковые материалы.

Следующие данные относятся к стандарту №: YS/t276-2011

Чистота: в≥99. 995% Стандартный номер: YS/T276-2011
Sn: 0,00033 Fe: 0,00001 Ag: 0,00001 Tl: 0,00022
Блок питания Pb: 0,00012 Следующим образом: 0,00006 Компакт-дисков: 0,00009 Si: 0,00008
Ал: 0,00001 Cu: 0,00001 Ni: 0,00001 Трансформаторного двигателя mn-Zn: 0,00003

Вакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 мВакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 мВакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 мВакуумное покрытие материал высокой чистоты индиевой проволоки d4.0 мм* 1 м

'